環(huán)境落塵顆粒實(shí)時(shí)監(jiān)控儀

Fastmicro 環(huán)境落塵顆粒實(shí)時(shí)監(jiān)控儀

Fastmicro 環(huán)境落塵顆粒實(shí)時(shí)監(jiān)控儀，專為潔凈室顆粒沉積速率測(cè)量而研發(fā)，支持秒級(jí)間隔的數(shù)據(jù)采集，精準(zhǔn)測(cè)量 0.5 um 以上顆粒。結(jié)合直觀易用的軟件系統(tǒng)，幫助客戶實(shí)現(xiàn)從單純空氣監(jiān)測(cè)向表面潔凈度監(jiān)測(cè)的跨越式升級(jí)，為工藝流程優(yōu)化和潔凈度持續(xù)改進(jìn)提供科學(xué)依據(jù)。

生產(chǎn)過(guò)程中的一致性測(cè)量

快速: 秒級(jí)連續(xù)監(jiān)測(cè)

定量: 適用于生產(chǎn)與研發(fā)環(huán)境的驗(yàn)證與監(jiān)測(cè) 

易操作: 操作員簡(jiǎn)單培訓(xùn)即可使用

精準(zhǔn): 高分辨率測(cè)量（數(shù)量、時(shí)間線、位置、尺寸）

一致性: 可重復(fù)的客觀測(cè)量結(jié)果

高吞吐量: 現(xiàn)場(chǎng)實(shí)時(shí)分析

監(jiān)測(cè)顆粒沉積速率（DPRL）

Fastmicro 環(huán)境落塵顆粒實(shí)時(shí)監(jiān)控儀（PFS）采用緊湊的工 業(yè)設(shè)計(jì)，依據(jù) ISO 14644-9 和 ISO 14644-17 標(biāo)準(zhǔn)，監(jiān)測(cè)顆 粒沉積速率（DPRL）。該設(shè)備使工藝/質(zhì)量工程師能夠?qū)崟r(shí) 監(jiān)控潔凈室環(huán)境中關(guān)鍵區(qū)域的顆粒沉降情況。

在關(guān)鍵區(qū)域?qū)崿F(xiàn)持續(xù)監(jiān)測(cè)

區(qū)別于傳統(tǒng)的僅監(jiān)測(cè)空氣懸浮顆粒，該系統(tǒng)可以對(duì)關(guān)鍵表 面的顆粒污染控制和潔凈度驗(yàn)證進(jìn)行持續(xù)監(jiān)測(cè)。 亞微米級(jí)顆粒并非始終懸浮于空氣中，它們可能沉積于關(guān) 鍵表面，影響技術(shù)潔凈度與產(chǎn)品質(zhì)量。

該儀器采用 2 英寸晶圓采集環(huán)境中的落塵顆粒，并可每 隔 10 秒左右對(duì)晶圓表面的顆粒進(jìn)行連續(xù)粒子沉降監(jiān)測(cè)。 其檢測(cè)粒徑尺寸為 ≥0.5（通過(guò) NIST 認(rèn)證），并準(zhǔn)確量化 沉降速率。 軟件界面簡(jiǎn)單直觀，可以一鍵生成報(bào)告。

Fastmicro PFS  是 一 款 高 精 度 原 位 檢 測(cè) 顆 粒 的 儀 器，幫 助 工 程 師 應(yīng) 對(duì)潔凈工藝控制挑戰(zhàn)。

結(jié)合 Phenom XL 掃描電鏡，可以 便捷高效的進(jìn)一步對(duì)顆粒物進(jìn)行成分表征和溯源分析。