武漢見！復納科技邀您共赴 2025 年全國電子顯微學學術年會

2025 年全國電子顯微學學術年會于 9 月 26 日 - 30 日（26 日報到，30 日離會）在武漢市國際會議中心召開。在砥礪前行卌五秋，探微求真為國謀之際，我們迎來了中國電子顯微鏡學會（對外）成立 45 周年慶典，本屆年會為慶賀專場，顯微學人以自己的學識與奉獻解析微觀世界之謎，為科技強國而勇于擔當，不斷進取。

本屆年會的主題是：顯微逐夢卌五載，踔厲奮發(fā)報神州。 本屆年會按材料科學與生命科學學科設立十五個專題分會場：

1. 顯微學理論、儀器方法與技術；

2. 原位電子顯微學表征； 

3. 功能材料的微結構表征；

4. 結構材料及缺陷、界面、表面，相變與擴散； 

5. 先進顯微分析技術在工業(yè)材料中的應用；

6. 掃描探針顯微學表征（STM/AFM 等）；

7. 電子衍射及電子全息（含 SEM、EBSD 和 TEM）；

8. 聚焦離子束（FIB）在材料科學中的應用；

9. 低溫電子顯微學表征； 

10. 生物醫(yī)學電鏡技術發(fā)展與應用； 

11. 顯微學在農林及生物科學領域中的應用（超分辨顯微鏡，激光共聚焦顯微鏡等）； 

12. 農林電子顯微學研究與應用； 

13. 先進材料顯微表征與前沿創(chuàng)新； 

14. 顯微科學儀器與先進材料； 

15. 顯微學平臺智能化升級與開放共享。

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復納科學儀器（上海）有限公司（以下簡稱“復納科技"）受邀參加此次會議，并且在新品發(fā)布之際，將攜飛納大倉室自動化掃描電鏡 Phenom XL 現場展出，歡迎各位蒞臨 5 樓【5-17】復納科技展臺測試體驗和交流，共同探討最新材料表征和制備技術！

•會議時間

2025 年 9 月 26 日 - 29 日（26日報到）

•會議地點

武漢國際會展中心

復納科技展位號5-17

現場互動

卡皮巴拉，“蒜鳥"等你來拿哦～ 

9 月 26 日 - 29 日會議期間

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關于復納科技

復納科技成立于 2012 年，專注引進歐美先進、穩(wěn)定的科學分析儀器與制造設備，助力中國科研創(chuàng)新與工業(yè)升級。公司已服務 2,500+ 家中國用戶，并與近 10 家國際制造商建立了長期穩(wěn)定的合作關系，共同為中國用戶提供高品質產品與專業(yè)服務。主要業(yè)務線如下：

• 復納顯微成像：荷蘭 Phenom 臺式掃描電鏡、比利時 NEOSCAN 高分辨臺式顯微 CT、匈牙利 Technoorg Linda 離子研磨儀

• 透射電鏡原位分析：荷蘭 DENSsolutions 原位透射樣品桿、匈牙利 Technoorg Linda TEM 氬離子精修儀

• 復納清潔度檢測：荷蘭 Phenom ParticleX 清潔度檢測系統（鋰電、汽車、光學模組、鋼鐵夾雜物）；荷蘭 Fastmicro 可視化顆粒檢測系統

• 復納納米制造：美國 Forge Nano 粉末原子層沉積系統、荷蘭 VSParticle 納米氣溶膠沉積系統

• 復納半導體： LabSEMI 半導體軟管

• 復納生命科學：匈牙利 Femtonics 雙光子顯微鏡

PART.01 Phenom 飛納臺式掃描電鏡

飛納作為全quanqiu球領ling（）xian先的桌面掃描電子顯微鏡，操作簡單，成像速度快且質量高，受到了眾多研究者的青睞。

1.新品發(fā)布——Phenom XL G3 大倉室自動化掃描電鏡

最新發(fā)布的大倉室自動化掃描電鏡 Phenom XL G3，憑借其 3000 小時的長壽命 CeB 晶體燈絲、AI 智能自動化功能，開啟了掃描電鏡的新紀元！無論是質量控制、研發(fā)測試，還是精準分析，Phenom XL G3 都將為您的工作帶來提升。

• 穩(wěn)定可靠: 80 年頂尖技術傳承。

• 采用 CeB6晶體燈絲: 3000 h 超長使用壽命，平均 5 年換燈絲。

• 面向工業(yè) 4.0 的自動化與 AI 智能掃描電鏡：開放編程接口，打造定制化的“黑燈實驗室"檢測流程，支持 Maps 地圖式多模態(tài)、多維度自動拼圖及關聯。

• 不挑安裝環(huán)境：內置專（zhuanli）利減震系統，可直接放置于生產車間、高樓層 QC 實驗室等。

• 原廠集成能譜 EDS：從電子光學設置、圖像采集到能譜分析和面分布，都在同一個統一、直觀的界面中完成。

• 低電壓成像功能：對于不導電、導電性差、以及電子束敏感樣品，不噴金，仍具有成像能力。

2.分辨率最高——Phenom 臺式場發(fā)射掃描電鏡

飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡，完（wanquan）全防震，在臺式機身上獲得接近大型場發(fā)射的性能。優(yōu)秀的低電壓成像能力，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，較大程度還原樣品的真實形貌。延續(xù)電鏡能譜一體化設計，升級的快速面掃可以即時顯示所選元素的分布情況，實時能譜分析功能大幅提升了檢測效率。

型號推薦

Pharos STEM 掃描透射電鏡

• 分辨率：優(yōu)于 1nm

• 成像模式：BF、DF、HAADF

Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

• 分辨率：優(yōu)于 1.5 nm

• 放大倍數：2,000,000 X

3.AFM-SEM 原子力掃描電鏡

AFM-in-SEM 技術的出現將原子力顯微鏡（AFM）與掃描電子顯微鏡（SEM）相結合，實現了多模態(tài)相關分析。它不僅能夠精確地將探針導航至感興趣的區(qū)域（ROI），還能對電學性質進行可靠的表征。

型號推薦（點擊圖片即可查看詳細信息）

Phenom AFM-SEM

原子力掃描電鏡一體機。結合了飛納臺式掃描電鏡和原子力顯微鏡的優(yōu)勢，實現了在同一系統中對樣品進行多模態(tài)關聯分析。

LiteScope AFM-SEM

同步聯用技術通用款兼容賽默飛世爾、TESCAN、蔡司、日立、JEOL 等主流品牌 SEM 系統，其他品牌電鏡亦可定制。

PART.02 Technoorg Linda 樣品制備

Technoorg Linda 系列離子研磨儀、離子減薄儀和離子精修儀，是 SEM / TEM / XTEM / FIB 樣品制備的有力工具。該系列產品采用離子束技術，可對樣品進行快速研磨、表面精細加工以及最終拋光等。離子研磨系統是一種高精度的表面處理技術，主要用于材料科學和半導體行業(yè)。目前絕大多數離子研磨系統都是采用傳統的觸控屏或機械鍵盤的方式進行操作。而最新的 Technoorg Linda 產品 SEMPREP SMART 創(chuàng)新地采用了智能 AI 操作模式，是一臺可以對話的離子研磨系統！

PART.03DENSsolutions TEM 原位樣品桿 

DENSsolutions 產品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激，捕捉 TEM 樣品在真實環(huán)境下的動態(tài)現象。目前提供的四種原位實驗方案：Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Arctic TEM 原位低溫冷凍熱電方案、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電方案和 Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電方案，為各學科領域在相關條件下研究各種材料和工藝開辟了可能性。

PART.04 分辨率最高的臺式顯微 CT

NEOSCAN 臺式顯微 CT 掃描系統對場地要求少、免維護、具備高空間分辨率。能夠真實再現材料內部結構，在材料研究、失效分析、工藝優(yōu)化中已經成為不可替代的測試手段。

PART.05 Femtonics 雙光子顯微鏡

“費米光學"雙光子顯微成像產品來自于匈牙利布達佩斯，致力于為全球頂尖研究人員提供先進的雙光子成像系統。Atlas 聲光三維雙光子顯微鏡采用聲光技術，擁有遠高于市面產品的掃描速度。3D 隨機訪問點掃描速度高達 100 kHz，高速任意幀掃描速度為 40 fps@510×510 px，在目標聚焦視場時高達 3000 fps。其已創(chuàng)下 20 多項世界紀錄，并擁有 44 項國際專（zhuan）利，技術成果出版物超 200 份，大部分成果發(fā)表于《Nature》《Science》《Cell》《Neuron》等頂級期刊。

PART.06 Forge Nano 粉末原子層沉積

Forge Nano 采用原子層沉積技術（ALD），可提供從包覆研發(fā)到工業(yè)生產的全套解決方案，包括：流化床技術、旋轉床、振動床等。實現從毫克到噸級的粉末處理量，您可以輕松實現從實驗室到生產的產品開發(fā)計劃。ALD 可應用于多種電極、電解質粉末材料，具有延長電池周期壽命、減少氣體生成、減少鋰不可逆損耗和高電壓工作穩(wěn)定性等優(yōu)勢。

PART.07 VSParticle 納米沉積系統

VSP-P1 納米印刷沉積系統能夠實現具有獨特性能的無機納米結構材料的打印直寫。印刷涂層的顆粒由 VSP-G1 納米粒子發(fā)生器產生，經火花燒蝕產生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下，且不含表面活性劑或任何其他有機添加物質。納米粒子生產和印刷沉積的整個過程是自動化的，不需要進行后續(xù)有機成分的熱處理去除。